“超细二硅化钼”参数说明
“超细二硅化钼”详细介绍
微米二硅化钼粉(Details):
MoSi2:≥99.9wt%;
APS:1μm
SSA:>17m2/g
密度:6.24g/cm3
松装密度:0.3g/cm3
形貌:球形
晶型:
颜色:灰色备注:可根据用户要求定制不同粒度的产品。制备方法:激光诱导化学气相沉积法(LICVD)
该方法是将原料置于真空或惰性气体保护的反应室中,原料表面经激光照射后,与入射的激光束相作用,原料吸收高能量激光束后迅速升温、蒸发形成气态,气态物质可直接冷凝沉积形成纳米微粒,气态物质也可在激光作用下分解后再形成纳米微粒。若反应室中有反应气体,则蒸发物可与反应气体发生化学反应,经过成核生长、冷凝后得到化合物的纳米粉体。整个过程基本上还是一个热化学反应和核生长的过程,该反应的特点是加热速率快,高温驻留时间短,迅速冷却,可以获得均匀超细粉体。
应用方向
1、发热元件;
2、集成电路;
3、高温抗氧化涂层;
4、高温结构材料;
5、电熔玻璃电极、鼓泡管、热偶保护管、气体取样管;
6、厚模电阻、导电抗氧化涂层。
MoSi2:≥99.9wt%;
APS:1μm
SSA:>17m2/g
密度:6.24g/cm3
松装密度:0.3g/cm3
形貌:球形
晶型:
颜色:灰色备注:可根据用户要求定制不同粒度的产品。制备方法:激光诱导化学气相沉积法(LICVD)
该方法是将原料置于真空或惰性气体保护的反应室中,原料表面经激光照射后,与入射的激光束相作用,原料吸收高能量激光束后迅速升温、蒸发形成气态,气态物质可直接冷凝沉积形成纳米微粒,气态物质也可在激光作用下分解后再形成纳米微粒。若反应室中有反应气体,则蒸发物可与反应气体发生化学反应,经过成核生长、冷凝后得到化合物的纳米粉体。整个过程基本上还是一个热化学反应和核生长的过程,该反应的特点是加热速率快,高温驻留时间短,迅速冷却,可以获得均匀超细粉体。
应用方向
1、发热元件;
2、集成电路;
3、高温抗氧化涂层;
4、高温结构材料;
5、电熔玻璃电极、鼓泡管、热偶保护管、气体取样管;
6、厚模电阻、导电抗氧化涂层。